Explication technique
La cellule HJT est construite en couches : au centre, un substrat de silicium monocristallin N-Type, entouré de couches ultra-minces de silicium amorphe (a-Si:H) intrinsèques et dopées. Ces couches amorphes passivisent exceptionnellement les surfaces de la cellule — réduisant la recombinaison encore plus efficacement que le TOPCon. La couche amorphe capture également mieux les longueurs d'onde courtes (UV) et diffuses. La fabrication HJT requiert des équipements spécialisés et des températures de dépôt basses (< 200°C), ce qui explique le surcoût de fabrication.